新製品アークフィラメント型イオンプレーティング装置の発売を開始いたします。

本装置は新型の蒸発粒子イオン化機構を装備しており、従来型のＡＤＩＰ法（アーク放電型
イオンプレーティング法）で不可能だった酸化膜の厚膜形成が可能になりました。
さらにＣＶＤ法でしか成膜できない緻密なＳｉＣ膜の形成も可能となりました。

本装置はＳｉＣ膜以外にアルミナ（Al２O3）イットリア（Ｙ２Ｏ３）など酸化膜の成膜技術も
確立しておりＳｉＣ膜と合わせて新たな用途の開拓を進めています。
同装置は受注活動を既に開始しており、今後は従来の硬質膜（Ｔｉ系・Ｃｒ系）用途に
も販売を進めていく予定です。