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新着情報

アークフィラメント型イオンプレーティング装置発売開始のお知らせ

お知らせ

新製品アークフィラメント型イオンプレーティング装置の発売を開始いたします。

本装置は新型の蒸発粒子イオン化機構を装備しており、従来型のADIP法(アーク放電型
イオンプレーティング法)で不可能だった酸化膜の厚膜形成が可能になりました。
さらにCVD法でしか成膜できない緻密なSiC膜の形成も可能となりました。

本装置はSiC膜以外にアルミナ(Al2O3)イットリア(Y2O3)など酸化膜の成膜技術も
確立しておりSiC膜と合わせて新たな用途の開拓を進めています。
同装置は受注活動を既に開始しており、今後は従来の硬質膜(Ti系・Cr系)用途に
も販売を進めていく予定です。

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