アセンブリ装置
■真空半田付装置(真空リフロー装置)
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真空リフロー装置
真空リフロー装置


【特徴1】
熱板による直接加熱と特殊冷却機構により、処理物の急速加熱・急速冷却を行い、最適なリフロー条件を実現します。
 
【特徴2】
全行程をH2還元雰囲気又は無酸化雰囲気に保つ事により、フラックス無しではんだ及びパッドの酸化膜除去を行い、良好なぬれ性を確保します。
 
【特徴3】
はんだ溶融時に真空中での脱泡を行う事により、ボイドを除去します。


 
真空引き無し 真空引き有り


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