真空装置
表面改質装置
 お問い合せ

DLC 薄膜形成装置
本装置は各種基板に耐腐食性、耐磨耗性及び平滑性に優れたDLC(ダイヤモンドライクカーボン)薄膜をプラズマCVD法により成膜する装置です。プラズマ源に熱陰極PIGプラズマガン(独自特許)を使用し真空中でガスを活性化し反応させて高品質のDLC薄膜を作製できます。
AAPIG-16110D型
【特徴】
標準Φ140×h400×12軸の基板に対し標準3μm(MAX10μm)のDLC薄膜を180分(うち成膜時間は60分)で作製する量産機です。
APIG-1060D型
【特徴】
本機は、プラズマ源に熱陰極PIGプラズマガンを使用した研究試作用DLC薄膜形成装置です。
小形ながら量産機と同性能を有する試作機で、量産化展開への検討に適しています。


>>新製品・重点商品紹介ページ でもご紹介しています。

▲pagetop

イオンプレーティング装置
神港精機のイオンプレーティング装置は、我が国のみならず世界中のユーザーのもとで活躍し、その優れた性能に高い評価を頂いております。新素材の開発分野ばかりでなく、量産用としても数多くの納入実績を誇っています。ユーザーの各方面への研究開発に大きな威力となる、最先端をゆく薄膜形成装置です。
アーク放電型高真空イオンプレーティング方式は、放電ガスを全く必要としないため、高真空中で処理が行なえます。

AIH-16110型
【特徴】
本機は、量産用半自動式の横形自公転イオンプレーティング装置です。 装飾、工具、それぞれの分野で高い評価をいただいております。

AIF-850SBT型
【特徴】
本機は、異なった複数の物質を同時に蒸発させる必要がある超電導膜をはじめ、合金膜形成用に開発された多元イオンプレーティング装置です。


▲pagetop
Copyright © 2003-2008 Shinko Seiki Co., Ltd. All Rights Reserved.