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製品情報

ICPプラズマエッチング装置SERIO

SERIO は高密度ICPプラズマソースを搭載した高密度プラズマエッチング装置です。
独自開発プロセスにより、高い垂直性とエッチング表面の平滑性を実現しました。
電子分野からMEMS、ナノインプリント分野における高アスペクトエッチングに最適なシステム構成です。

サンプルデモ受付中

ICPプラズマエッチング装置SERIO ICPプラズマエッチング装置SERIO

【特長】
高密度ICPプラズマソースによりスムースなエッチング面を実現した高密度エッチング装置です。
エッチング角度の制御性にも優れ、ナノインプリントのモールドの作製に最適です。

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