日本真空工業会主催の「2023年度JVIA表彰式」が2024年5月31日（金）東京大神宮
マツヤサロンで執り行われました。

弊社のアーク放電型マグネトロンスパッタリング装置で寺山　暢之が真空装置大賞を受賞
いたしました。
同賞は真空産業に従事し、技術、開発、製造、サービス、営業等の各分野で、
これら産業および真空産業の発展への貢献に対する表彰です。

本装置では高密度プラズマが得られる熱陰極アーク放電を利用し、スパッタされた粒子を
熱電子衝撃により電離させることで、入射イオン量10倍という驚異的な性能を得て、緻密
で硬い反応性窒化膜が工業的な成膜速度で生産できるようになりました。