高密度プラズマ装置SWP
大面積に均一な高密度プラズマが生成可能な表面波プラズマ(SWP)を採用しています。
アッシング・表面処理等多くの用途で活躍中です。
H2ラジカルによるダメージレスクリーニングが行えます。
![](https://www.shinko-seiki.com/wp/wp-content/uploads/2015/11/735b5205fc307b47a3d1242855890336.jpg)
【特長】
大面積に均一な高密度プラズマが形成できる表面波プラズマを応用し、アッシングやCVD装置として納入しています。
ダメージレスでハイレートアッシングが可能です。
大面積に均一な高密度プラズマが生成可能な表面波プラズマ(SWP)を採用しています。
アッシング・表面処理等多くの用途で活躍中です。
H2ラジカルによるダメージレスクリーニングが行えます。
【特長】
大面積に均一な高密度プラズマが形成できる表面波プラズマを応用し、アッシングやCVD装置として納入しています。
ダメージレスでハイレートアッシングが可能です。