従来ＣＶＤでしか実用化出来なかった膜種（厚膜酸化膜・炭化膜等）をＰＶＤによって実現した
新方式のイオンプレーティング装置です。

「アークフィラメント型イオンプレーティング装置」は蒸発源上での蒸発粒子と熱電子との
衝突によって蒸発絵粒子のイオン化を効率的に行います。
さらに導入ガスとイオン化した蒸発粒子の反応によって緻密で密着力の強い各種反応膜
（窒化膜・酸化膜・炭化膜・炭窒化膜）が形成できます。

従来型の「アーク放電型イオンプレーティング装置」では困難だった酸化膜の厚膜形成も
行えるようになりました。
アークフィラメント型イオンプレーティング装置だから形成できる新たなＰＶＤ膜は精密金型や
半導体製造装置部品など多くの用途への展開が期待されています。