ガラス基板を対象とした通過成膜型インラインタイプのスパッタリング装置です。

矩形カソードを多元で装備しておりプロセスや生産数に合わせて、成膜室、加熱室、冷却室等の組み合わせを任意に選択できます。
大型基板に均一な膜厚分布性能を持ち、安定した量産プロセスを実現します。