スパッタ室にて 10⁻⁷Pa のバックグランドの排気性能を持つ超高真空対応の牧葉式スパッタリング装置です。
ロードロック室・カセット室・搬送室・スパッタ室の全６室より構成され、超高真空中での多層成膜・一環処理が可能です。磁気デバイスや化合物などの開発に極めて有効です。